合成参数对氧化锡纳米薄膜的表面形貌影响研究

• 作者: 华林 宋杰光 张联盟 徐明晗 杜大明 沈强 王芳 陈社
• 来源期刊: 粉末冶金技术
• 关键词: 二氧化锡 合成参数 水热法 纳米薄膜
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺与设备
• 页码范围: 445-448,464
• 页数: 5页
• 字数: 2893字
• 语种: 中文

摘要

利用水热法制备二氧化锡纳米薄膜,本文通过对合成条件进行控制,并用FE-SEM对薄膜进行表征.结果显示:随着NaOH比例的增加,SnO2晶体粒径增大,从而导致SnO2堆积生长越发凌乱.随着保温时间增加,SnO2晶体更加完整.随着SnCl4浓度的增加,二氧化锡生长越发凌乱、无规则.根据研究结果分析可以得到较佳合成工艺参数为:反应温度200℃,盐碱摩尔比为1∶4,盐浓度为0.05 moVL,保温8天.