沉淀法制备高纯SiO2粉体

• 作者: 丁家兴 严颖 周永恒
• 来源期刊: 中国粉体技术
• 关键词: 高纯SiO2粉体 沉淀法 氟硅酸
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 颗粒制备
• 页码范围: 45-47
• 页数: 3页
• 分类号: TB383
• 语种: 中文
• DOI: 10.13732/j.issn.1008-5548.2015.04.010

摘要

采用分步沉淀法,以自制含硅溶液与氨水反应制备高纯SiO2粉体,分析溶液pH、氨水浓度及酸洗工艺对SiO2粉体纯度的影响.结果表明:除去含硅溶液在pH为7时的沉淀物后,继续与氨水反应的沉淀物经过酸洗,可得到常规金属杂质质量分数仅为1.8×10-6的超高纯纳米SiO2粉体.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周永恒	华南师范大学广东省微纳光子功能材料与器件重点实验室	21	300	8.0	17.0
2	严颖	华南师范大学广东省微纳光子功能材料与器件重点实验室	1	1	1.0	1.0
3	丁家兴		1	1	1.0	1.0