PECVD 颜色均匀性的研究

• 作者: 杨飞飞 贾彦科
• 来源期刊: 通信电源技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅减反射膜 工艺参数 均匀性
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 设计应用
• 页码范围: 60-61
• 页数: 2页
• 分类号: TM914.4|TN305.2
• 字数: 1369字
• 语种: 中文

摘要

根据多晶硅 PECVD 的制程原理，分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响，寻求最佳参数，从而达到优化工艺，改善镀膜颜色质量，保证颜色均匀性的目的。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨飞飞		8	2	1.0	1.0
2	贾彦科		6	3	1.0	1.0