温室和露地条件下不同浓度腐霉利在黄瓜中的残留消解特性研究

• 作者: 周艳琳 唐文娟 李宝林 杨柳青 王丽梅 陈恩祥 陈新来 马刚
• 来源期刊: 现代农药
• 学科: 工学
• 关键词: 腐霉利 黄瓜 温室 露地 残留 消解动态
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 环境与残留
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TQ450.2+63
• 字数: 2099字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-5284.2015.06.010

摘要

研究温室和露地2种栽培条件下,腐霉利在黄瓜中的残留消解规律.结果表明:2种栽培条件下,喷施50％腐霉利可湿性粉剂1 500 g/hm2和3 000 g/hm2后,黄瓜上腐霉利初始沉积量存在较大差异,施药剂量越大,初始沉积量越高.腐霉利在黄瓜中的残留消解动态符合一级动力学方程.腐霉利高、低用量在露地黄瓜中的半衰期均为1.1d;在温室黄瓜中的半衰期均为2.9d.