气态光源涂覆工艺中涂粉配方的优化

• 作者: 孙玉华 平杰红 张利峰 李思杰 邓蓓 韩世泉
• 来源期刊: 同位素
• 学科: 工学
• 关键词: 气态光源 水涂覆 涂粉配方
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 放射性同位素及应用技术
• 页码范围: 69-74
• 页数: 6页
• 分类号: TL99
• 字数: 4192字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/tws.2015.28.02.0069

摘要

气态涂层光源是一种自激发光源，是利用放射性同位素发出的带电粒子激发荧光物质而发光的同位素照明装置。气态光源具有无需维护、无需外加电源，使用时不受温度、湿度、海拔高度以及使用技术影响的优点，应用广泛。荧光粉涂覆工艺是制备气态光源的关键技术之一。本研究采用单一变量的方法，通过改变荧光粉、粘结剂和固化剂等成分的比例选择更优的涂粉配方。阴极射线发光测量系统及扫描电镜结果表明，配方各成分含量分别为粘结剂PEO7.0～7.5 mL、荧光粉13～16 g、去离子水4.3 mL、添加剂0.45 m L和固化剂为7.3％～7.5％时涂覆效果较佳。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩世泉	中国原子能科学研究院同位素研究所	37	204	7.0	13.0
2	张利峰	中国原子能科学研究院同位素研究所	7	4	2.0	2.0
3	李思杰	中国原子能科学研究院同位素研究所	6	0	0.0	0.0
4	平杰红	中国原子能科学研究院同位素研究所	4	0	0.0	0.0
5	邓蓓	中国原子能科学研究院同位素研究所	1	0	0.0	0.0
6	孙玉华	中国原子能科学研究院同位素研究所	3	0	0.0	0.0