高沉积率激光金属沉积Inconel 718的孔隙率控制

• 作者: Andres Gasser 丁亚林 付金宝 仲崇亮
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 激光加工 激光金属沉积 增材制造 孔隙率 Inconel 718
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 3005-3011
• 页数: 7页
• 分类号: TG456.7|TG442
• 字数: 3646字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20152311.3005

摘要

为降低高沉积率激光金属沉积(Laser Metal Deposition,LMD)工艺中材料的孔隙率,研究了以镍基高温合金Inconel 718(IN718)为粉末沉积材料的高沉积率LMD工艺中主要工艺参数对材料孔隙率的影响,以及通过调整工艺参数降低材料孔隙率的方法.以目标沉积率为2 kg/h的LMD工艺为基础,通过参数固化和分离的手段开展了高沉积率LMD的镀层实验,研究了主要工艺参数即激光功率、扫描速度及送粉量对LMD镀层材料孔隙率的影响,分析了不同参数下各镀层的横截面孔隙率及镀层孔隙率.实验显示:当激光功率从1 440 W增加到4 214 W时,镀层材料的孔隙率从约1.5％降低至0.02％左右;当扫描速度为500 mm/min至5 000 mm/min时,镀层材料孔隙率始终保持为0.07％至0.18％左右;当送粉量从0.64 kg/h增加至6.48 kg/h时,镀层材料孔隙率从约0.01％增加至0.84％左右.可见在高沉积率LMD工艺中,扫描速度对材料孔隙率无明显影响,而提高激光功率、限制送粉量均可有效降低LMD材料孔隙率,提高横截面孔隙率的一致性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁亚林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	104	917	16.0	25.0
5	付金宝	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	12	59	5.0	7.0