激光化学气相沉积石墨烯的基底温度场仿真

• 作者: 张建寰 张陈涛 陈永庆
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 化学
• 关键词: 激光技术 温度场 仿真 基底 石墨烯
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: ? 激光与光电子技术应用?
• 页码范围: 648-653
• 页数: 6页
• 分类号: O644.18
• 字数: 3759字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2015.05.013

摘要

为了分析激光化学气相沉积制备石墨烯过程中催化剂基底的静态和动态温度场分布与各个实验参量之间的关系，采用基于ANSYS软件建立有限元分析模型和加载532nm激光热源模型的方法，取得了不同实验参量影响下基底温度场分布和达到反应温度所需时间的数据。结果表明，在基底材料属性、激光功率大小、基底面积尺寸、聚焦光斑直径、反应气体流量的影响下，基底静态温度场的分布与达到反应温度所需时间均不同，可作为制备高质量石墨烯实验的参考依据。采用波长为532nm、功率为3W、聚焦光斑直径为50μm、移动速率为1mm／s的连续型激光器，以镍箔为基底材料，在标准状态下甲烷和氢气流量分别为10mL／min和5mL／min条件下仿真得到的动态温度场符合激光化学气相沉积法制备图案化石墨烯的生长机理。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张建寰	厦门大学物理与机电工程学院机电工程系	33	133	7.0	10.0
2	张陈涛	厦门大学物理与机电工程学院机电工程系	7	38	2.0	6.0
3	陈永庆	厦门大学物理与机电工程学院机电工程系	2	4	2.0	2.0