沟槽栅IGBT关键技术研究

• 作者: 余伟 刘根 杨鑫著 罗海辉 谭灿健 黄建伟
• 来源期刊: 大功率变流技术
• 学科: 工学
• 关键词: 沟槽栅IGBT 沟槽刻蚀 栅氧生长 多晶硅填充
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 电力电子器件
• 页码范围: 57-61
• 页数: 5页
• 分类号: TN32
• 语种: 中文
• DOI: 10.13889/j.issn.2095-3631.2015.02.012

摘要

与平面栅IGBT相比,沟槽栅IGBT能显著改善通态压降与关断能量的折衷关系,更适用于中低压高频应用领域.针对沟槽栅IGBT技术的挑战(主要包含沟槽刻蚀、栅氧生长、沟槽多晶硅填充等),研究并开发了沟槽栅一系列关键工艺:形貌优良的沟槽槽型,质量完好的栅氧生长工艺以及具备优良均匀性的原位掺杂多晶硅填充工艺等.采用改进工艺后的沟槽栅IGBT芯片具有良好的电学性能,展示出优异的栅氧特性,顺利通过了高温动、静态等多项测试,较平面栅IGBT体现出压降和损耗优势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄建伟		6	0	0.0	0.0
2	罗海辉		4	0	0.0	0.0
3	杨鑫著		1	0	0.0	0.0
4	刘根		1	0	0.0	0.0
5	余伟		2	0	0.0	0.0
6	谭灿健		1	0	0.0	0.0