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红外焦平面杜瓦冷屏挡光环杂散辐射的抑制
红外焦平面杜瓦冷屏挡光环杂散辐射的抑制
作者:
尹爽
张娴静
徐思轶
朱颖峰
赵维艳
黄一彬
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
红外焦平面
杜瓦冷屏
杂散辐射抑制
挡光环
ASAP
摘要:
从光学设计的角度出发,介绍了冷屏杂散辐射抑制的基本原理.基于几何光学的基本原理,应用ASAP软件的计算机仿真模拟手段进行实际的光学系统建模,在现有冷屏设计的基础上,仿真具有不同挡光环个数和不同开孔形状的挡光环的冷屏,分析筛选杂散辐射抑制效果最好的冷屏,在尽量减轻重量、减小体积的前提下,获得尽可能好的消杂散辐射效果.
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非均匀性校正在红外杂散辐射抑制中的应用
红外辐射
杂散辐射
冷反射
100%冷阑效率
非均匀性校正
内容分析
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文献信息
篇名
红外焦平面杜瓦冷屏挡光环杂散辐射的抑制
来源期刊
红外技术
学科
工学
关键词
红外焦平面
杜瓦冷屏
杂散辐射抑制
挡光环
ASAP
年,卷(期)
2015,(11)
所属期刊栏目
材料与器件
研究方向
页码范围
916-920
页数
5页
分类号
TN215
字数
1814字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
朱颖峰
22
75
5.0
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2
赵维艳
4
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3.0
3
黄一彬
6
15
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3.0
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徐思轶
2
6
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尹爽
2
6
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张娴静
浙江大学光电工程学院
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二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
红外焦平面
杜瓦冷屏
杂散辐射抑制
挡光环
ASAP
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
主办单位:
昆明物理研究所
中国兵工学会夜视技术专业委员会
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-8891
CN:
53-1053/TN
开本:
大16开
出版地:
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
邮发代号:
64-26
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
总被引数(次)
30858
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