激光刻蚀制备微波介质陶瓷滤波器工艺研究

• 作者: 丰崇友 唐普洪 胡元云 许来涛
• 来源期刊: 应用激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光 介质陶瓷 刻蚀 滤波器
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 页码范围: 583-587
• 页数: 5页
• 分类号: TN249|TG665
• 语种: 中文
• DOI: 10.14128/j.cnki.al.20153505.583

摘要

采用激光在微波介质陶瓷滤波器的镍、铜、银的镀层表面刻蚀制备耦合电容图形.分别研究了激光刻蚀功率、激光刻蚀速度对图形微槽深度、产品合格率和产品二次污染率的影响.结果表明,在激光刻蚀速度一定时,耦合电容图形微槽的深度、产品的二次污染率随激光刻蚀功率先增大后减小,激光刻蚀功率为15 W时达到最大值;在激光刻蚀功率一定时,耦合电容图形微槽的深度、产品的二次污染率随激光刻蚀速度的增大而减小.产品合格率在激光刻蚀速度一定时,激光刻蚀功率达到13 W以后保持在95％以上;在激光刻蚀功率一定时,激光刻蚀速度达到1 000 mm/min以前保持在95％以上.因此最佳的激光刻蚀参数为:刻蚀速度为800 mm/min,刻蚀功率为18 W.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡元云		3	3	1.0	1.0
2	许来涛		1	0	0.0	0.0
3	唐普洪		1	0	0.0	0.0
4	丰崇友		1	0	0.0	0.0