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NiCl2含量对电沉积Ni-纳米TiN复合镀层过程的影响
NiCl2含量对电沉积Ni-纳米TiN复合镀层过程的影响
作者:
吴蒙华
宁智
李霖泰
王元刚
王邦国
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Ni-纳米TiN复合镀
氨基磺酸镍
氯化镍
沉积速率
镀层厚度
显微硬度
微观形貌
摘要:
目的:针对氨基磺酸镍体系镀镍液,优化活化剂NiCl2的用量,提高Ni-纳米TiN复合镀层的性能。方法采用超声-脉冲电沉积工艺制备Ni-纳米TiN复合镀层,研究NiCl2含量对镀液的电导率及复合镀层的厚度、显微硬度、表面微观形貌等的影响。结果镀液的电导率及复合镀层的厚度、显微硬度均随NiCl2含量的增加呈现先增大、后减小的变化趋势。当NiCl2的用量为30 g/L时,镀液的导电性能最佳,电导率值为61.3 mS/cm,复合镀层的厚度及显微硬度均达到最大值,分别为84μm和760HV,并且复合镀层表面平整光滑,晶粒尺寸最小。结论 NiCl2含量对镀液及复合镀层的性能有很大影响,适量的NiCl2可以防止阳极钝化,提高镀液的导电能力及沉积速率,使复合镀层的厚度增加,显微硬度提高,晶粒细化,微观形貌获得改善,性能提高。适宜的NiCl2用量为30 g/L。
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复合电沉积
Ni-金刚石
界面作用力
内容分析
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相关学者/机构
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文献信息
篇名
NiCl2含量对电沉积Ni-纳米TiN复合镀层过程的影响
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
Ni-纳米TiN复合镀
氨基磺酸镍
氯化镍
沉积速率
镀层厚度
显微硬度
微观形貌
年,卷(期)
2015,(9)
所属期刊栏目
膜层技术 Coating Technology
研究方向
页码范围
7-12,28
页数
7页
分类号
TQ153.1
字数
3099字
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.09.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
吴蒙华
大连大学机械工程学院
83
556
13.0
18.0
2
王元刚
大连大学机械工程学院
24
80
6.0
7.0
3
宁智
大连大学机械工程学院
5
14
2.0
3.0
4
王邦国
大连大学机械工程学院
14
55
4.0
7.0
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李霖泰
大连大学机械工程学院
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引证文献(2)
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研究主题发展历程
节点文献
Ni-纳米TiN复合镀
氨基磺酸镍
氯化镍
沉积速率
镀层厚度
显微硬度
微观形貌
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
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