直流电沉积制备纳米孪晶Ni的显微组织分析

• 作者: 申向丽
• 来源期刊: 铸造技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米孪晶Ni 5次孪晶 直流电沉积
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 材料开发
• 页码范围: 1648-1649,1652
• 页数: 3页
• 分类号: TG113
• 语种: 中文
• DOI: 10.16410/j.issn1000-8365.2015.07.007

摘要

采用直流电沉积方法制备纳米孪晶Ni材料,并对其显微组织进行了分析.结果表明,7.35°本征间隙的存在,使得直流电沉积制备的五次纳米孪晶衍射花样以外的区域中,部分衍射斑发生了辟裂.由于相邻晶界宽化程度不同,相连接的区域极易产生缺陷,孪晶极易在此交接处形核,形成新的其它取向的孪晶.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	申向丽		10	15	2.0	3.0