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摘要:
采用射频磁控溅射方法在蓝宝石单晶衬底上沉积氧化镓( Ga2 O3)薄膜,并通过光刻剥离工艺( Lift-off)制备了金属-半导体-金属结构的Ga2 O3日盲紫外探测器。对不同温度下沉积的Ga2 O3薄膜分析表明,在800℃下获得的薄膜结晶质量最好,薄膜的导电性则随着沉积温度的上升先增大后减小。在800℃制备的β-Ga2 O3薄膜的可见光透光率大于90%,光学吸收边在255 nm附近。在10 V偏压下,探测器的暗电流约为1 nA,光电流达800 nA,对紫外光响应迅速。器件的响应度达到0.3 A/W,260 nm波长处的响应度是290 nm波长对应响应度的40倍,可实现日盲紫外波段的探测。
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文献信息
篇名 氧化镓薄膜的制备及其日盲紫外探测性能研究
来源期刊 发光学报 学科 物理学
关键词 β-Ga2O3 射频磁控溅射 紫外探测
年,卷(期) 2015,(8) 所属期刊栏目 器件制备及器件物理
研究方向 页码范围 906-911
页数 6页 分类号 O484.4
字数 3103字 语种 中文
DOI 10.3788/fgxb20153608.0906
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 邓宏 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 72 653 14.0 22.0
2 陈文宇 电子科技大学计算机科学与工程学院 45 389 10.0 18.0
3 韦敏 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 15 131 7.0 11.0
4 刘浩 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 6 20 3.0 4.0
5 于永斌 电子科技大学信息与软件工程学院 12 35 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
β-Ga2O3
射频磁控溅射
紫外探测
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1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
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