中子导管末端中子束角发散分布规律研究

• 作者: 刘蕴韬 孙凯 王洪立 王雨 贺林峰 陈东风 韩松柏 魏国海
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 中子导管 角发散 蒙特卡罗模拟 中子照相
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 234-239
• 页数: 6页
• 分类号: O571.56
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2015.49.02.0234

摘要

本文针对常被忽略的中子导管末端束流角发散现象，基于全反射光学几何原理推导了准确描述中子束角发散分布规律的理论公式，揭示了角发散分布不连续特性的本质是源于导管系统中空间间隔的影响。利用蒙特卡罗模拟软件建立计算模型，验证了公式的正确性。模拟结果发现，角发散分布的不连续性将引起使用光阑的光路系统样品处中子强度空间分布不均匀，甚至出现栅格暗纹效应。依据理论解析公式，提出了优化角发散分布从而减小或消除暗纹效应的方法。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙凯	中国原子能科学研究院核物理研究所	31	67	4.0	6.0
2	陈东风		83	193	7.0	11.0
3	刘蕴韬	中国原子能科学研究院核物理研究所	56	160	6.0	11.0
4	王洪立	中国原子能科学研究院核物理研究所	12	38	4.0	5.0
5	王雨	中国原子能科学研究院核物理研究所	7	19	2.0	4.0
6	魏国海	中国原子能科学研究院核物理研究所	9	18	2.0	4.0
7	贺林峰	中国原子能科学研究院核物理研究所	7	10	2.0	3.0
8	韩松柏	中国原子能科学研究院核物理研究所	14	26	2.0	4.0