基体负偏压对类金刚石涂层结构和性能的影响

• 作者: 何利民 甄洪滨 纪锡旺 许振华 贺莉丽 郝俊文
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: DC-PECVD 类金刚石 基体负偏压 结构 性能
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 材料与工艺
• 页码范围: 43-49
• 页数: 7页
• 分类号: TG70
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2015.08.008

摘要

采用直流等离子体增强化学气相沉积技术（DC‐PECVD），通过控制基体负偏压的变化在YG8硬质合金基体上制备一系列类金刚石涂层。选用扫描电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、X射线光电子能谱、粗糙度仪对涂层形貌和结构进行表征测试。同时，利用显微硬度计、划痕测试仪系统地分析涂层的显微硬度和界面结合性能。结果表明：随着负偏压增大，涂层表面形貌逐渐平整光滑、致密，颗粒尺寸减小及数量降低。拉曼光谱表明，涂层具有典型的类金刚石结构，涂层中sp3键含量呈先增大后减小趋势，最大值约67．9％出现在负偏压为1000V左右，负偏压过大导致sp3键含量降低。显微硬度随负偏压变化规律与s p3键基本相符，s p3键含量决定显微硬度值大小。负偏压过大对吸附离子产生反溅射作用导致涂层厚度减小。当负偏压为1100V时，涂层与基体间的界面结合性能最优。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何利民		50	426	10.0	19.0
2	郝俊文	华东理工大学机械与动力工程学院	9	55	4.0	7.0
3	纪锡旺		2	13	2.0	2.0
7	许振华		14	106	6.0	10.0
8	贺莉丽		3	8	2.0	2.0
9	甄洪滨		1	4	1.0	1.0