高功率脉冲电流对磁控溅射TiN薄膜结构及力学性能影响

• 作者: 孔营 巩春志 李永健 田修波 耿慧远 胡健
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 TiN 脉冲电流 膜层结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 1483-1488
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.12.15

摘要

采用高功率脉冲磁控溅射技术在M2高速钢基体上沉积了TiN薄膜,研究了不同脉冲电流下TiN膜层的沉积速率、膜基结合力、晶体生长取向、纳米硬度和摩擦磨损性能等.结果表明:随着脉冲电流的增加,膜层沉积速率不断增大,膜层致密度逐渐增强.当脉冲电流增加到20A以上时膜层沿着(111)面择优生长并且具有最高的I(111),这与能流密度效应有关.脉冲电流为20A时的膜层表面具有最高的硬度(可达25GPa)、最高的膜基结合力(可达70N,压痕评定优于HF2)和较好的耐摩擦磨损性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巩春志	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	69	320	9.0	14.0
2	田修波	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	106	515	11.0	17.0
3	胡健	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	54	393	11.0	17.0
4	耿慧远	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	5	8	2.0	2.0
5	孔营	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	3	5	2.0	2.0
6	李永健	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	2	3	1.0	1.0