多弧离子镀负偏压对氮化钛薄膜的影响

• 作者: 宋沂泽 张焱 彭凯 王成磊 董中新 高原
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 氮化钛 负偏压 耐磨性 结合力 硬度
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 膜层技术
• 页码范围: 1-6,28
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2484字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.11.001

摘要

目的 确定适当的负偏压,提高多弧离子镀氮化钛薄膜的综合性能. 方法 采用不同的负偏压,在4 Cr13不锈钢表面制备TiN薄膜,探讨偏压对薄膜表面质量、结构、硬度、结合力和摩擦系数的影响. 结果 负偏压对薄膜表面质量的影响较大:负偏压为0 V时,TiN薄膜表面凹凸不平,液滴较多;随着负偏压升高,薄膜表面变得光滑,液滴减少并变小,薄膜致密性也得到提高. 在不同负偏压下, TiN薄膜均呈现出在(111)晶面的择优取向,但随着负偏压的增大,这种择优取向逐渐减弱,当负偏压达到400 V时,薄膜在(220)晶面的峰值逐渐增强. 随着负偏压从0增至400 V,薄膜的硬度、结合力和耐磨性均先提高,后降低. 当负偏压为300 V时,薄膜的硬度和结合力达到最大,分别为2650 HV和58 N;摩擦系数和磨损量最小,分别为0. 48和0. 1065 mm3. 结论 施加适当的负偏压可以提高薄膜的硬度、结合力、耐磨性等性能,当负偏压为300 V时,薄膜的各项性能达到最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高原	桂林电子科技大学材料学院	145	940	14.0	24.0
2	董中新		5	3	1.0	1.0
3	彭凯	桂林电子科技大学材料学院	6	8	2.0	2.0
4	宋沂泽		2	3	1.0	1.0
5	张焱		1	2	1.0	1.0
6	王成磊		1	2	1.0	1.0