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摘要:
高功率脉冲磁控溅射具有高的金属离化率,在薄膜制备表现出巨大的优势,成为当前磁控溅射技术领域一个新的发展趋势.高功率脉冲磁控溅射的放电特性、等离子体特性等微观参数对薄膜质量控制具有决定性作用,分析宏观参数如何影响微观参数,有利于提高薄膜质量,稳定工艺.因此,本文研究了脉冲与直流电源并联模式的复合高功率脉冲磁控溅射过程中,脉冲电压(400~800 V)对Ti、Cr靶在Ar气氛中的放电特性、等离子体参数(等离子体电势、电子温度、电子密度)、基体电流的影响.结果表明:复合高功率脉冲磁控溅射Ti、Cr靶放电过程中,脉冲电压的增加有利于脉冲作用期间的靶电压、靶电流、基体电流增加;当Ti靶脉冲电压为600 V或Cr靶脉冲电压为700 V时,电子密度出现较大值.Cr靶与Ti靶放电相比,前者的靶电流、基体电流、等离子体电势、电子温度比后者更高,而电子密度却更低.
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文献信息
篇名 复合高功率脉冲磁控溅射放电等离子体特性
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 高功率脉冲磁控溅射 复合 放电特性 等离子体特性
年,卷(期) 2015,(1) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 4-8
页数 分类号 TB79|TB43
字数 语种 中文
DOI 10.13385/j.cnki.vacuum.2015.01.02
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 汪爱英 中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室 33 206 9.0 13.0
2 张栋 中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室 42 316 9.0 16.0
3 柯培玲 中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室 22 149 7.0 11.0
4 李小婵 中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室 1 9 1.0 1.0
5 许辉 1 9 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
高功率脉冲磁控溅射
复合
放电特性
等离子体特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12898
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