基底预处理对非晶碳/Mo2C复合薄膜场发射性能的影响

• 作者: 姚宁 王朝勇 邱伟光
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 场发射 衬底预处理 非晶碳/Mo2C
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 13-16
• 分类号: O484.4+2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2015.01.04

摘要

利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)技术在镀有过渡层金属Mo的Al2O3陶瓷基底上制备了非晶碳/Mo2C复合薄膜,研究了基底预处理对所制备薄膜的场发射特性的影响.结果表明,在同一条件下利用金刚砂研磨处理的样品具有比较好的场发射特性,利用W20金刚砂处理后制备的样品具有最好的场发射特性,其开启电场低(0.74 V/μm),同一电场(2.59 V/μm)下场发射电流密度最大(12.7 A/cm2)而且发光点分布均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学教育部材料物理重点实验室	122	692	12.0	18.0
2	王朝勇	河南城建学院数理学院	14	38	3.0	5.0
4	邱伟光		7	0	0.0	0.0