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摘要:
采用归一化能量1 MeV的中子脉冲反应堆对AlGaN/GaN异质结材料进行了辐照研究.实验发现,经1015cm-2注量的中子辐照后,异质结材料的二维电子气(2DEG)载流子浓度(ns)下降,而2DEG迁移率由于受到ns的调制作用略有增加,同时辐照导致的载流子浓度ns下降造成了沟道串联电阻的增加和异质结构阈值电压(VTH)的正向漂移.分析认为,辐照感生类受主缺陷是造成ns下降和阈值电压漂移的原因.原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)的测试结果表明,辐照后材料的表面形貌有所恶化,材料应变基本不变,而材料的螺位错和刃位错密度辐照后都略有增加.此外,实验结果还表明初始材料质量越好,辐照退化越小.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 AlGaN/GaN异质结材料的中子辐照效应
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 AlGaN/GaN异质结构 中子辐照 受主缺陷 表面形貌 晶格应力
年,卷(期) 2015,(3) 所属期刊栏目 半导体材料
研究方向 页码范围 217-221
页数 分类号 TN386|O571.5
字数 语种 中文
DOI 10.13290/j.cnki.bdtjs.2015.03.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张林 长安大学电子与控制工程学院 36 203 8.0 13.0
2 全思 长安大学电子与控制工程学院 4 10 2.0 3.0
3 刘盼芝 长安大学电子与控制工程学院 18 95 6.0 9.0
4 谷文萍 长安大学电子与控制工程学院 7 12 2.0 2.0
8 徐小波 长安大学电子与控制工程学院 5 7 2.0 2.0
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节点文献
AlGaN/GaN异质结构
中子辐照
受主缺陷
表面形貌
晶格应力
研究起点
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半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
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18-65
1976
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