一种离线光学邻近效应匹配方法的研究和仿真

• 作者: 刘艳松 宋之洋 粟雅娟 苏晓菁 郭沫然 韦亚一
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 计算光刻 光学邻近效应校正(OPC) 光学邻近效应匹配 工艺窗口控制
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 197-203
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2015.03.011

摘要

目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的问题.针对上述问题,以不同光刻机间的光学邻近效应匹配为研究对象,阐述了匹配的原理及流程,提出了一种利用常用的OPC建模工具实现离线匹配的方法,模拟分析了该方法对成像误差的补偿效果,揭示了不同性质的误差对成像性能的影响规律,验证了该方法的正确性,为不同光刻机间的工艺转移提供了新的思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘艳松	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	4	5	2.0	2.0
2	宋之洋	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	1	0	0.0	0.0
3	郭沫然	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	1	0	0.0	0.0
4	苏晓菁	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	2	4	1.0	2.0
5	粟雅娟	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	9	29	3.0	5.0
6	韦亚一	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	9	7	2.0	2.0