导电玻璃SiO2反应溅射的模糊控制

• 作者: 于鹏 吕桂娟 殷孝雎
• 来源期刊: 玻璃
• 学科: 工学
• 关键词: 模糊控制 反应溅射 透过率
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 玻璃深加工
• 页码范围: 35-39
• 页数: 5页
• 分类号: TQ171
• 字数: 1777字
• 语种: 中文

摘要

SiO2磁控反应溅射是根据靶电源电压来调整镀膜室中O2的含量,由于靶电源反馈信号产生的误差和延时,会使SiO2成膜率不高和靶表面“中毒”.本文介绍一种使用模糊控制的方法,根据检测SiO2发光光谱,控制具有高速反应的压电陶瓷阀,进而调节反应溅射中参与反应的O2含量,从而达到控制SiO成膜的效果.这种方法不仅提高了SiO2的成膜率,而且有效防止了靶表面产生的“中毒”反应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	殷孝雎		8	2	1.0	1.0
2	吕桂娟		4	1	1.0	1.0
3	于鹏		3	0	0.0	0.0