钛薄膜制备工艺及物理特性研究

• 作者: 刘经纬 吴慎将 蔡长龙
• 来源期刊: 火工品
• 关键词: 钛薄膜 溅射功率 工作气压 沉积速率 电阻率 微观结构
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 17-20
• 页数: 4页
• 分类号: TJ450.4
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射镀膜技术，在硅片上以不同的工艺参数（如溅射功率、工作气压）制备钛薄膜。通过单因素试验研究了溅射功率和工作气压对钛薄膜沉积速率、电阻率的影响，并利用扫描电子显微镜观察薄膜样品截面，获得了制备低电压起爆的复合含能桥膜的最佳工艺参数。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡长龙	陕西省薄膜技术与光学测试重点实验室西安工业大学光电工程学院	1	2	1.0	1.0
2	刘经纬	陕西省薄膜技术与光学测试重点实验室西安工业大学光电工程学院	1	2	1.0	1.0
3	吴慎将	陕西省薄膜技术与光学测试重点实验室西安工业大学光电工程学院	1	2	1.0	1.0