N2对碲镉汞干法刻蚀诱导损伤的影响

• 作者: 韩福忠 龚晓丹
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 碲镉汞 干法刻蚀 诱导损伤 N2
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 315-321,322
• 页数: 8页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2883字
• 语种: 中文

摘要

报道了碲镉汞（HgCdTe）干法刻蚀诱导损伤的相关研究。由于干法刻蚀过程中，刻蚀剂主要采用CH4/H2，其裂解产生的H容易扩散到材料内部引起材料的电学性质发生改变，从而产生刻蚀诱导损伤。通过在刻蚀剂中引入一定量的N2，可以抑制H对材料电学性质的改变作用。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龚晓丹		2	3	1.0	1.0
2	韩福忠		19	61	5.0	6.0