铬(Ⅵ)离子印迹聚合物的研究进展

• 作者: 代昭 单宏权 孟超 黄丹丹
• 来源期刊: 天津化工
• 学科: 工学
• 关键词: 离子印迹技术 六价铬 制备 聚合物 趋势
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 专论与综述
• 页码范围: 5-7,18
• 页数: 4页
• 分类号: TQ266.2
• 字数: 3239字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1267.2015.05.002

摘要

离子印迹技术是分子印迹技术的一个重要分支,可以制备对金属离子具有专一识别性能的聚合物,该技术制备工艺简单,操作简便,稳定性好和选择性高等特点,离子印迹聚合物有利于废水中重金属的吸附去除.本文简述了离子印迹技术机理,介绍了合成铬(Ⅵ)离子印迹聚合物的制备方法,并阐述了铬(Ⅵ)离子印迹聚合物的研究进展.通过对离子印迹技术的了解和进一步深入研究,进而希望能够设计出一种对废水中铬(Ⅵ)离子污染治理的高效能吸附剂,并展望了其发展趋势应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	代昭	天津工业大学环境与化学工程学院	40	102	6.0	7.0
2	孟超	天津工业大学环境与化学工程学院	3	3	1.0	1.0
3	黄丹丹	天津工业大学环境与化学工程学院	8	21	3.0	4.0
4	单宏权	天津工业大学环境与化学工程学院	1	3	1.0	1.0