氧化钨纳米线定域制备及其场发射特性研究

• 作者: 刘飞 许卓 许宁生 邓少芝 陈军 陈道坤
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钨纳米线 热氧化制备 场发射特性
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 4-7
• 页数: 4页
• 分类号: TN14
• 字数: 1092字
• 语种: 中文

摘要

冷阴极在X射线源中有重要应用.本文结合微加工技术和磁控溅射镀膜技术,采用直接热氧化法实现了在玻璃衬底上大面积定域制备氧化钨(WO3)纳米线阵列.制备所得的WO3纳米线具有较大的长径比.场发射特性测试表明,该WO3纳米线冷阴极具有良好的场发射特性,开启电场为4.9 V/μm,发射均匀性好,有望应用在平板X射线源中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈道坤	光电材料与技术国家重点实验室中山大学物理科学与工程技术学院	1	2	1.0	1.0
2	许卓	光电材料与技术国家重点实验室中山大学物理科学与工程技术学院	1	2	1.0	1.0
3	刘飞	光电材料与技术国家重点实验室中山大学物理科学与工程技术学院	1	2	1.0	1.0
4	邓少芝	光电材料与技术国家重点实验室中山大学物理科学与工程技术学院	2	2	1.0	1.0
5	许宁生	光电材料与技术国家重点实验室中山大学物理科学与工程技术学院	4	4	1.0	1.0