辉光放电质谱法测定高纯钴中痕量杂质元素

• 作者: 刘英波 施昱 杨海岸 罗舜 闫豫昕
• 来源期刊: 云南冶金
• 学科: 化学
• 关键词: 辉光放电质谱法 高纯钴 痕量元素
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 检测技术
• 页码范围: 61-65
• 页数: 5页
• 分类号: O657.63
• 字数: 3409字
• 语种: 中文

摘要

采用辉光放电质谱法(GD-MS)测定高纯钴中Na、K、Fe、Ni、Cu等14个痕量杂质元素.找出了合适的样品预处理方法,讨论了最佳仪器工作参数和样品预溅射时间的选择,探讨了如何选择合适的分析同位素及分辨率模式来减小同位素干扰的影响.分析了GD-MS测定痕量杂质元素的精密度,并将分析结果与高纯钴样品出厂标定值进行比对以验证GD-MS无标直接分析的准确程度.结果表明,辉光放电质谱法是直接分析高纯钴材料的有效分析方法.