偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB2基涂层结构及力学性能的影响

• 作者: 李沛 谷文翠 贾丛丛 钟庆东 黄峰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 TiB2涂层 金属掺杂 断裂韧性 摩擦磨损
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 594-600
• 分类号: O484
• 字数: 3878字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.05.15

摘要

采用双靶非反应磁控溅射,通过改变基底偏压,制备了一系列Ni掺杂TiB2基的涂层.通过X射线能谱仪确定其成分,利用X射线衍射、扫描电镜对涂层的结构进行分析,并通过纳米压痕、维氏压痕、划痕以及摩擦磨损分别对涂层的硬度、模量、断裂韧性、膜基结合力和摩擦学性能进行了表征.结果表明:此工艺下制备的TiB2-Ni涂层中均存在六方相的TiB2结构,并且生长结构非常致密,无明显的柱状生长结构,表面粗糙度低;硬度均大于40 GPa;涂层均具有较好的断裂韧性;且随着偏压增大断裂韧性和结合力都有所提高;同时所制备涂层摩擦系数均在0.5～0.6,磨损率在同一数量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李沛	上海大学省部共建高品质特殊钢治金与制备国家重点实验室	15	63	4.0	7.0
3	钟庆东	上海大学省部共建高品质特殊钢治金与制备国家重点实验室	50	259	9.0	12.0
4	黄峰	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	36	194	7.0	12.0
5	谷文翠	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	4	11	2.0	3.0
8	贾丛丛	上海大学省部共建高品质特殊钢治金与制备国家重点实验室	1	2	1.0	1.0