宇航用瓷介电容表面处理工艺优化研究与实践

• 作者: 刘富品 李小鹏 田智文
• 来源期刊: 航天制造技术
• 关键词: 瓷介电容 表面处理 电镀 工艺优化
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 现代管理
• 页码范围: 60-65
• 页数: 6页
• 字数: 4148字
• 语种: 中文

摘要

系统研究了宇航用瓷介电容表面处理工艺存在的问题，分析了工艺影响因素及机理，并由此开展了工艺优化路线研究，从四个方面进行了优化实践，实现了宇航工艺控制目标。对今后开展宇航产品工艺优化研究及过程控制体系完善，具有参考意义。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘富品		1	0	0.0	0.0
2	田智文		1	0	0.0	0.0
3	李小鹏		2	3	1.0	1.0