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紫外光固化在微流控芯片技术中的应用研究进展
紫外光固化在微流控芯片技术中的应用研究进展
作者:
于洁
刘继延
尤庆亮
张玮莹
曹一平
李娜
申超
郭文勇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
UV固化
微流控芯片
研究现状
PDMS
摘要:
报道了紫外光(UV)固化在微流控芯片技术中的应用,利用光刻技术可直接在聚合物材料上制作微通道,以减少微流控芯片的研究成本和制作周期。重点介绍了UV固化在微流控芯片发展过程中的光刻、曝光及表面改性等方面的应用及其特点,综述了近些年来UV固化在微流控芯片技术中的国内外研究现状,为微流控芯片的制备、发展及完善提供了一条可行的路径。最后在总结国内外研究现状的基础上展望了UV固化未来的发展趋势。
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文献信息
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相关学者/机构
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期刊文献
内容分析
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相关文献总数
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文献信息
篇名
紫外光固化在微流控芯片技术中的应用研究进展
来源期刊
江汉大学学报(自然科学版)
学科
工学
关键词
UV固化
微流控芯片
研究现状
PDMS
年,卷(期)
2015,(2)
所属期刊栏目
化 学
研究方向
页码范围
133-137
页数
5页
分类号
TH16|TN3
字数
3918字
语种
中文
DOI
10.16389/j.cnki.cn42-1737/n.2015.02.007
五维指标
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研究主题发展历程
节点文献
UV固化
微流控芯片
研究现状
PDMS
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
江汉大学学报(自然科学版)
主办单位:
江汉大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1673-0143
CN:
42-1737/N
开本:
大16开
出版地:
武汉经济技术开发区江汉大学期刊社
邮发代号:
创刊时间:
1973
语种:
chi
出版文献量(篇)
2387
总下载数(次)
5
总被引数(次)
7420
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