氧氩比对Ti掺杂ZnO薄膜结构和光电性能的影响

• 作者: 张建鹏 王宇 王小龙 王萌萌 陈泽昊 高倩 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO∶Ti薄膜 磁控溅射 光电性能 氧氩比
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 页码范围: 37-41
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3730字
• 语种: 中文

摘要

为优化ZnO∶Ti复合薄膜制备工艺,采用射频磁控溅射法在不同氧氩比条件下沉积ZnO∶Ti复合薄膜,得到的样品经由EDS能谱仪检测Ti掺杂质量分数为3％.分别利用台阶仪、扫描电子显微镜、X线衍射仪、分光光度计和霍尔效应仪对样品的沉积速率、微观结构和光电性能进行表征.结果表明:随着氧氩比逐渐增大,薄膜的沉积速率呈现先增加后减小的变化.所有ZnO∶Ti薄膜均为六角纤锌矿结构,具有(002)晶面择优取向;当氧氩比为1∶1时,薄膜样品的表面形貌和结构优于其他样品.经过在空气中500℃的退火处理,薄膜样品的结晶质量明显提高.所有ZnO∶Ti薄膜在可见光区透过率均大于90％.随着氧氩比的增加,薄膜样品的电阻率先减小后增加,当氧氩比为1∶1时,电阻率最小,为6.5×10-4 Ω·cm,薄膜的综合性能达到最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高倩	天津师范大学物理与材料科学学院	7	4	1.0	2.0
2	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
3	王小龙	天津师范大学物理与材料科学学院	5	4	1.0	2.0
4	张建鹏	天津师范大学物理与材料科学学院	6	2	1.0	1.0
5	王萌萌	天津师范大学物理与材料科学学院	6	39	3.0	6.0
6	陈泽昊	天津师范大学物理与材料科学学院	6	14	2.0	3.0
7	王宇	天津师范大学物理与材料科学学院	15	33	3.0	5.0