Zn∶NiO纳米线的制备及其光催化活性

• 作者: 张万松 张家奇 王爱军 相文峰 赵昆 赵重阳
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 锌掺氧化镍(Zn∶NiO)纳米线 化学还原法 光催化活性 甲基橙 降解
• 年，卷（期）: 2015,（12）
• 所属期刊栏目: 材料与结构
• 页码范围: 757-760,778
• 分类号: TB383|TQ138.13
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2015.12.002

摘要

通过化学还原法及退火处理制备出了锌掺杂的氧化镍(Zn: NiO)纳米线.用扫描电子显微镜、X射线衍射以及能量色散谱对纳米线的结构和组分进行了测试与分析.测试结果显示:所制备的Zn:NiO纳米线不含其他杂质,为面心立方结构的纯相晶体.纳米线尺寸均匀,直径约为300 nm,长度约为100 μm.同时,纳米线表面生长着细小的尖刺结构.以氙灯为照射光源,研究了Zn:NiO纳米线对于降解甲基橙染料的光催化活性.研究结果表明:Zn:NiO纳米线具有良好的光催化活性,在进行光催化5h后甲基橙的降解率约为58％.