光学滤光片薄膜边缘应力研究

• 作者: 张玲 熊玉卿 王多书 王济洲 董茂进
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 边缘效应 应力模型
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 计算材料学
• 页码范围: 14-17
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2372字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2330.2015.01.004

摘要

以光学滤光片薄膜边缘应力作为对象,研究了Ge/ZnS单、多层光学薄膜应力的变化规律.通过实验研究了离子束轰击能量以及真空退火温度等因素对Ge/ZnS光学薄膜应力类型、大小、变化及其分布的影响规律.ZnS薄膜的应力为压应力,采用离子束辅助工艺后薄膜边缘应力变得均匀;真空退火使ZnS薄膜的应力减小为原来的一半.通过优化沉积参数和张应力、压应力薄膜的组合降低了Ge/ZnS多层光学薄膜的应力,结果表明其平均应力分别为0.1 MPa,而且处于压应力状态.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王多书	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	27	71	5.0	6.0
2	熊玉卿	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	20	24	3.0	3.0
3	王济洲	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	19	29	3.0	3.0
4	张玲	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	6	19	2.0	4.0
5	董茂进	兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室	14	36	3.0	5.0