异硫氰基含氟联苯乙炔液晶合成研究

• 作者: 刘胜 张智勇 彭增辉 戴志群 申烦 黄江涛
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 化学
• 关键词: 异硫氰基 含氟联苯乙炔 高双折射率液晶 合成
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 特邀报告
• 页码范围: 895-903
• 页数: 9页
• 分类号: O621.3
• 字数: 6695字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20153006.0895

摘要

本文合成了4个异硫氰基联苯乙炔类液晶化合物。通过1 HNMR、13 CNMR、19 FNMR、IR 和 MS 谱图鉴定结构正确。用差示扫描热议(DSC)和偏光显微镜(POM)对化合物的相变温度进行了测试,发现所合成目标化合物均呈现向列相,其相变态温度范围在105~137℃,其双折射率高于0.47,可作为液晶光栅高双折射率液晶材料的有效组分。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭增辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	32	156	8.0	11.0
2	申烦	武汉轻工大学化学与环境工程学院	6	4	1.0	2.0
3	张智勇	武汉轻工大学化学与环境工程学院	22	21	2.0	4.0
4	戴志群	武汉轻工大学化学与环境工程学院	14	21	2.0	4.0
5	刘胜	武汉轻工大学化学与环境工程学院	3	10	1.0	3.0
6	黄江涛	武汉轻工大学化学与环境工程学院	2	2	1.0	1.0