射频磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜的研究

• 作者: 乔在祥 冯金晖 徐睿 杨立 王赫
• 来源期刊: 电源技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铝掺杂氧化锌薄膜 射频磁控溅射 导电性 透过率
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 1682-1684
• 页数: 3页
• 分类号: TM914
• 字数: 2833字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法沉积铝掺杂氧化锌(ZnO∶Al,简称AZO)薄膜,研究了本底压强、溅射功率以及沉积时间对AZO薄膜光电性质的影响,优化了该层薄膜的沉积工艺.研究结果表明,在尽可能低的本底压强下,采用适中的溅射功率(500 W),制备出厚度约为500 nm的AZO薄膜,其电阻率达到5×10-4Ω·cm,可见光范围内的平均透过率达到82.7％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐睿	中国电子科技集团公司第十八研究所重点实验室	18	61	5.0	7.0
2	王赫	中国电子科技集团公司第十八研究所重点实验室	13	16	2.0	3.0
3	乔在祥	中国电子科技集团公司第十八研究所重点实验室	16	28	3.0	5.0
4	杨立	中国电子科技集团公司第十八研究所重点实验室	7	15	2.0	3.0
5	冯金晖	中国电子科技集团公司第十八研究所重点实验室	4	23	3.0	4.0