Si对高Nb-TiAl合金组织及室温拉伸性能的影响

• 作者: 叶腾 宋霖 杨亮 林均品 王艳丽 高叔博
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高Nb-TiAl合金 Si合金化 组织演变 室温拉伸性能
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 页码范围: 859-865
• 页数: 7页
• 分类号: TG146.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.11900/0412.1961.2015.00075

摘要

研究硅化物(Nb5Si3相)析出对高Nb-TiA)合金组织及室温拉伸性能的影响.实验结果表明,硅化物脱溶析出温度在1000～1200℃之间,析出物位于片层团晶界处、β(B2)相偏析处以及片层之间.添加Si元素后,合金室温拉伸性能有所增加.因为Nb5Si3相的形成使得β(B2)相稳定元素Nb含量下降,导致脆性相β(B2)相体积减少.但是,含Si高Nb-TiA)合金经过热处理后,室温拉伸性能随热处理温度提高而逐步降低.因为沿片层析出的硅化物会导致裂纹沿片层产生与增殖,而且应力会导致硅化物进一步析出,加速裂纹扩展.而且,Si的加入会导致y相区扩大,在1280～1300℃之间形成y单相区.硅化物析出在片层边界处,会导致块状γ4β(B2)相组织,脆化晶界;而硅化物析出在片层内部会导致二次y板条形成,割裂了初始片层组织.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王艳丽		79	897	17.0	25.0
2	林均品		112	1317	19.0	30.0
3	杨亮		17	105	6.0	9.0
4	高叔博		1	0	0.0	0.0
5	叶腾		1	0	0.0	0.0
6	宋霖		2	1	1.0	1.0