工业级MgO的研磨及在杨木CTMP碱性H2O2漂白中的应用

• 作者: 侯庆喜 刘苇 刘莉晖 吴少帅 徐宁攀 徐飞强 汤斌
• 来源期刊: 中国造纸
• 学科: 工学
• 关键词: 工业级MgO 研磨 杨木CTMP 碱性H2O2漂白
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 17-23
• 页数: 7页
• 分类号: TS745
• 字数: 5048字
• 语种: 中文

摘要

采用不同的湿法研磨工艺对工业级MgO进行研磨,分析了研磨浓度、研磨转速、研磨时间、研磨介质对MgO粒径及化学反应活性的影响;分别用经不同时间研磨处理的MgO替代25％NaOH(摩尔分数)对杨木CTMP进行碱性H2O2漂白,研究了漂后浆料的性能.结果表明,工业级MgO湿法研磨的浓度和转速分别为10％和500 r/min,在以自来水和去离子水为研磨介质时,MgO粒径随着研磨时间的增加逐渐减小,当研磨时间40 min时MgO的化学反应活性达到最大值;而以无水乙醇为研磨介质时,MgO化学反应活性则随研磨时间的延长持续增加;与未研磨MgO相比,在H2O2漂白时使用研磨浓度为10％、研磨转速500 r/min、研磨时间40 min条件下获得的MgO,漂后浆张的松厚度、白度和光散射系数均下降,强度有所提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯庆喜	天津科技大学天津市制浆造纸重点实验室	70	313	11.0	14.0
2	刘苇	天津科技大学天津市制浆造纸重点实验室	19	67	3.0	7.0
3	徐宁攀	天津科技大学天津市制浆造纸重点实验室	2	3	1.0	1.0
4	吴少帅	天津科技大学天津市制浆造纸重点实验室	1	0	0.0	0.0
5	汤斌	天津科技大学天津市制浆造纸重点实验室	1	0	0.0	0.0
6	徐飞强	天津科技大学天津市制浆造纸重点实验室	1	0	0.0	0.0
7	刘莉晖	天津科技大学天津市制浆造纸重点实验室	1	0	0.0	0.0