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摘要:
随着纳米技术的进步,量子点纳米材料在理论和实验研究方面受到越来越多的关注.由于量子点阵列优异的物理性能与其空间分布的有序性十分相关,空间分布有序量子点阵列的大面积重复性制备已成为高性能纳米光电子器件商业化应用的关键.近几十年来,在量子点空间排列分布有序性的提高、缺陷态的减少、成核位置可控以及大面积重复制备方面人们已做了大量研究.本文主要讨论和综述当前在制备空间分布有序硅/锗(Si/Fe)量子点方面的技术工艺和成果,并展望其未来技术发展思路和方向,希望为今后进一步探索研究大面积空间分布有序Si/Ge量子点阵列的制备提供信息参考.
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文献信息
篇名 硅/锗量子点空间分布的有序性及其制备技术
来源期刊 硅酸盐通报 学科 物理学
关键词 Si/Ge量子点 空间分布有序 多层膜结构 图案化衬底
年,卷(期) 2015,(7) 所属期刊栏目 综合评述
研究方向 页码范围 1871-1877,1890
页数 8页 分类号 O472
字数 5689字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 谭新玉 三峡大学材料与化工学院 14 30 3.0 4.0
2 姜礼华 三峡大学材料与化工学院 11 18 3.0 3.0
3 向鹏 三峡大学材料与化工学院 12 19 3.0 4.0
4 肖婷 三峡大学材料与化工学院 8 17 3.0 3.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
Si/Ge量子点
空间分布有序
多层膜结构
图案化衬底
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