紫外光谱法探讨偏二甲肼废水氧化降解机理

• 作者: 刘博 刘祥萱 卜晓宇
• 来源期刊: 含能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 偏二甲肼(UDMH) 废水 氧化 降解 紫外光谱
• 年，卷（期）: 2015,（10）
• 所属期刊栏目: 液体推进剂
• 页码范围: 977-981
• 页数: 5页
• 分类号: TJ55|O64
• 字数: 2529字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11943/j.issn.1006-9941.2015.10.011

摘要

针对目前偏二甲肼(UDMH)降解方法存在中间产物毒性高、难降解的问题,建立了跟踪、分析UDMH废水氧化降解产物的紫外光谱检测方法.确立了UDMH降解过程中产物峰的归属.解析了Cu2+/H2O2和Fenton两种氧化体系的降解产物,推测了降解反应机理.结果表明:UDMH和偏腙(FDMH)的紫外峰值分别在200 nm和235 nm.两种体系可有效地降解UDMH废水,但Cu2+/H2O2体系中间产物较多、毒性较大.先加入H2O2较先加入Cu2+能减少中间产物.铁粉的加入有利于中间产物的减少.Fenton体系能有效地抑制有毒中间产物的产生.