基于LabVIEW可编程电化学脉冲湿法刻蚀系统设计

• 作者: 张嘉 李倩倩 苗凤娟 赵柯洋 陶佰睿 高玉峰
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 硅微加工平台 电化学湿法刻蚀 可编程脉冲 低温控制 光辐照设备
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 71-74
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

摘要

针对电化学湿法刻蚀硅微加工需求,基于LabVIEW软件开发平台,利用上位机、可编程直流稳压电源PSM-6003、低温控制和LED光辐照等设备搭建了一种新型可编程电化学湿法刻蚀装置.其中基于LabVIEW的PSM-6003上位机控制软件,可以通过图形界面对系统各种参数实时设置,例如刻蚀电压幅值、刻蚀脉冲频率和占空比、刻蚀电流和刻蚀时间以及刻蚀系统的辅助光照和环境温度等,系统各参数监控和动作执行主要利用美国NI公司PCI-6221数据卡实现.该系统成本低、操作简便、可模块化安装,对促进实验室电化学湿法刻蚀微加工设备的研制有重要借鉴意义.