Ta/Pt双底层Co/Ni多层膜的反常霍尔效应

• 作者: 于广华 俱海浪 刘帅 李宝河
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: Co/Ni多层膜 反常霍尔效应 垂直磁各向异性
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 材料与工艺
• 页码范围: 19-23
• 页数: 5页
• 分类号: O484.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2015.11.004

摘要

通过JGP560A型磁控溅射仪制备了一系列以Ta/Pt为底层的Co/Ni多层膜样品,研究了多层膜中Pt缓冲层厚度、周期层中Co与Ni厚度以及多层膜周期数对样品反常霍尔效应和磁性的影响.结果发现:逐渐增厚的Pt层可以使样品的矫顽力增加,但是分流作用会导致样品的霍尔电阻降低,通过比较确定Pt缓冲层的厚度为2nm;磁性层中Co和Ni都处于一定厚度范围内时,多层膜的霍尔回线才能具有良好的矩形度,当厚度超出其特定范围时,多层膜的矩形度会变差,经过分析确定磁性层中Co和Ni的厚度为均0.4nm;磁性层的周期数对样品的性能也有着显著的影响,最终通过对周期数优化获得的最佳样品结构为Ta(2nm)Pt(2nm)Co(0.4nm) Ni(0.4nm) Co(0.4nm) Pt(1nm),该样品的霍尔回线矩形度非常好,霍尔信号明显,该样品总厚度在7nm以内,可进一步研究其在垂直磁纳米结构中的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李宝河	北京工商大学理学院	43	158	6.0	9.0
2	于广华	北京科技大学材料科学与工程学院	88	372	9.0	14.0
3	俱海浪	北京科技大学材料科学与工程学院	14	46	4.0	6.0
5	刘帅	北京科技大学材料科学与工程学院	10	18	3.0	3.0