HfO2／SiO2高反射薄膜的应力控制技术研究

• 作者: 戴红玲 王刚 蒲云体 邱服民
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 应力 氧分压 蒸发速率
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 激光材料和光学元件
• 页码范围: 785-788
• 页数: 4页
• 分类号: O484.2
• 字数: 3445字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2015.06.011

摘要

物理气象沉积的薄膜通常都有应力。为了防止高反膜应力破坏基底的面型，采用数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的薄膜的应力进行了测量，并讨论了影响光学介质薄膜应力的多种因素。使用了一种交替沉积HfO2和SiO2薄膜的技术路线，HfO2薄膜作为高折射率材料体现出张应力，SiO2薄膜作为低折射率材料体现出压应力。结果表明，在稳定了很多实验条件的情况下，通过调整镀膜时的充氧量和镀膜材料的蒸发速率实现了应力的平衡；高反射薄膜有比较高的损伤阈值。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱服民		12	85	5.0	9.0
2	蒲云体		4	6	2.0	2.0
3	王刚		6	21	2.0	4.0
4	戴红玲		1	2	1.0	1.0