SISCOM成像术在难治性癫痫致痫灶定位中的研究进展

• 作者: 刘杰 王猛 金超岭 颜珏
• 来源期刊: 中国医疗设备
• 学科: 医学
• 关键词: 发作期单光子计算机断层减影与核磁共振融合成像术 难治性癫痫 致痫灶
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 页码范围: 59-61,83
• 页数: 4页
• 分类号: R742.1
• 字数: 3067字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-1633.2015.11.018

摘要

发作期单光子计算机断层减影与核磁共振融合成像术（SISCOM成像术）是一种新兴的神经影像学检查方法。SISCOM成像术作为一种多模态检查，结合了结构影像学和功能影像学的优势，在难治性癫痫致痫灶定位中表现出重要价值。本文主要对SISCOM在难治性癫痫致痫灶定位中的影响因素和临床价值做一综述。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	颜珏	中日友好医院核医学科	40	199	9.0	12.0
2	王猛	中日友好医院核医学科	24	72	6.0	6.0
3	刘杰	中日友好医院核医学科	27	121	7.0	9.0
4	金超岭	中日友好医院核医学科	27	72	5.0	6.0