碳化硅在低辐射镀膜玻璃中的应用

• 作者: 刘伟 宋宇 童帅
• 来源期刊: 玻璃
• 学科: 工学
• 关键词: Low-E玻璃 SiNx SiC 真空磁控溅射 溅射速率
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 玻璃深加工
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TQ171
• 字数: 2566字
• 语种: 中文

摘要

分析了目前Low-E玻璃存在的问题,给出了解决办法及思路,介绍了碳化硅膜层的特性以及在镀膜领域尤其是低辐射膜层(Low-E)中的应用,提升了离线Low-E膜层的性能,进一步加快了离线Low-E玻璃民用化的推广.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	童帅		16	4	1.0	2.0
2	刘伟		4	0	0.0	0.0
3	宋宇		3	0	0.0	0.0