PVD法渗Si制备6．5％Si高硅钢过程组织结构与性能演化研究?

• 作者: 孔令刚 孙勇 毕晓昉 田广科
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 6 .5％Si高硅钢 磁控溅射 扩散 组织结构 磁性能
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺?技术
• 页码范围: 1117-1120,1124
• 页数: 5页
• 分类号: TM275
• 字数: 3569字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2015.01.024

摘要

基于物理气相沉积(PVD)之直流磁控溅射镀膜技术在低硅钢薄板双面共沉积富 Si 膜,然后高温真空扩散处理使 Si 渗入低硅钢基体,提高基体含 Si量.以沉积Fe5 Si3膜＋1180℃×1 h 扩散为1回合增Si处理,研究了多回合循环增Si处理过程硅钢基体组织结构与性能的演化机理.采用光学显微镜对样品进行了金相分析,采用扫描电镜(SEM)观察了样品的微观组织形貌,并用能谱分析仪(EDS)进行成分分析.用X射线衍射仪(XRD)和透射电镜(TEM)表征了样品的结构特征.经过4回合循环增 Si 处理可将0．35 mm厚低硅钢基体含 Si 量由3％提高到6．5％,且沿厚度方向 Si 浓度分布均匀.相比于初始态低硅钢基片,PVD法制成6．5％Si 高硅钢中高频铁损值降低40％~50％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孔令刚	兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心	17	48	3.0	6.0
2	田广科	兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心	16	50	5.0	6.0
4	毕晓昉	北京航空航天大学材料科学与工程学院	13	73	5.0	8.0
7	孙勇	兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心	2	8	1.0	2.0