倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时流场的数值研究

• 作者: 兰万里 李雪 许兰喜
• 来源期刊: 北京化工大学学报（自然科学版）
• 学科: 数学
• 关键词: 同轴旋转圆台 雷诺数 泰勒涡
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 管理与数理科学
• 页码范围: 113-116
• 页数: 4页
• 分类号: O242.1
• 语种: 中文

摘要

通过数值模拟,研究了倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时的流场,进一步研究了雷诺数继续增大时涡的发展和演变,并且对相应的现象给出了解释.研究结果表明,继续增大雷诺数,圆台间涡的个数奇偶交替的周期变大;当雷诺数增大到300时,圆台间最终稳定为偶数个涡,涡的个数不再发生变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许兰喜		17	11	2.0	3.0
2	李雪		6	52	4.0	6.0
3	兰万里		5	0	0.0	0.0