高功率半导体激光宽带熔覆WC-NiSiB耐磨涂层的组织结构与性能

• 作者: 牛伟 王云山 雷剑波 顾振杰
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 激光技术 激光熔覆 碳化钨 WC-NiSiB复合层 显微组织
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 304-311
• 页数: 8页
• 分类号: TG665
• 语种: 中文

摘要

采用3 kW高功率半导体激光器，在45钢基体上制备不同WC含量(质量分数20%~80%)的WC-NiSiB复合涂层，用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及X射线衍射(XRD)对熔覆层的微观组织、成分分布及物相进行表征，并测试涂层试样的硬度与耐磨性能。结果表明，激光熔覆WC-NiSiB复合涂层组织主要由γ-Ni、WC、W2C、WB、W2B、Ni4B3及Ni4W等物相组成，熔覆层与基体形成冶金结合。涂层与基体的结合区，从熔合线开始逐渐向上的组织依次为垂直于界面的胞状晶、柱状晶和枝状晶，熔覆层中部为沿一定方向生长的树枝晶，表层为异向生长的细小树枝晶。随WC颗粒含量增加，涂层中WC颗粒分布更加密集。WC含量为60%时，WC颗粒分布均匀致密，熔覆层无裂纹，熔覆层的硬度最高达到1291 HV，为NiSiB合金层硬度的2.7倍，耐磨性是NiSiB合金层的6.8倍。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	牛伟	天津工业大学激光技术研究所	27	236	9.0	15.0
2	王云山	天津工业大学激光技术研究所	59	763	16.0	25.0
3	雷剑波	天津工业大学激光技术研究所	53	380	10.0	18.0
4	顾振杰	天津工业大学激光技术研究所	15	17	2.0	4.0