Pd/SiO2有机-无机薄膜的制备及其在N2气氛中的热稳定性

• 作者: 李保松 李悦 杨靖 许好 霍翔
• 来源期刊: 膜科学与技术
• 学科: 物理学
• 关键词: Pd/SiO2薄膜 溶胶-凝胶法 疏水性 热稳定性
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 9-13,19
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 4168字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16159/j.cnki.issn1007-8924.2015.01.002

摘要

采用溶胶-凝胶法,在甲基化改性SiO2溶胶中掺杂PdCl2,制备Pd/SiO2有机-无机薄膜.通过XRD、红外光谱、TG-DTG分析、接触角以及SEM测试,考察该样品在N2气氛中的热稳定性.结果表明,Pd/SiO2膜材料经200℃以上温度焙烧后,样品中即出现了少量纳米金属Pd粒子,这些金属Pd为PdCl2还原所得.随着焙烧温度的升高,金属Pd粒子的衍射峰强度增加,膜材料中的Si-CH3吸收峰和Si-OH吸收峰减弱.样品中的Si-CH3吸收峰在750℃时完全消失.金属Pd的掺杂对SiO2膜材料的化学结构基本没影响.保持Pd/SiO2有机-无机薄膜及分离膜疏水性的最适宜焙烧温度为350℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨靖	西安工程大学环境与化学工程学院	58	295	10.0	15.0
2	李保松	西安工程大学环境与化学工程学院	6	11	2.0	3.0
3	李悦	西安工程大学环境与化学工程学院	21	15	2.0	3.0
4	霍翔	西安工程大学环境与化学工程学院	2	6	2.0	2.0
5	许好	西安工程大学环境与化学工程学院	2	6	2.0	2.0