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摘要:
纳米通道内的反电渗析过程是一种将纳米通道两端由于浓度差造成的能量势差直接转化成电能的新方法.由于反电渗析中局部浓度随通道位置变化,壁面电荷密度也会随通道位置发生变化.本文引入双电层带电Basic-Stern模型,将壁面电荷密度与局部浓度关联,并在传统空间电荷模型的基础上,预测了反电渗析过程的电流电压曲线和电动势.修正的空间电荷模型由于引入双电层带电模型,将难以测量的物理量,如壁面电荷密度,转化为较易测得的物理量和已知的模型参数.与过去模型的对比表明修正的空间电荷模型在合理选择模型参数的条件下更符合实验结果.
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文献信息
篇名 纳米通道反电渗析的理论分析
来源期刊 工程热物理学报 学科 物理学
关键词 反电渗析 空间电荷模型 Basic-Stern模型 TMS模型
年,卷(期) 2015,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 154-157
页数 4页 分类号 O364.1
字数 语种 中文
DOI
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1 张力 48 715 13.0 25.0
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工程热物理学报
月刊
0253-231X
11-2091/O4
大16开
北京中关村路乙12号(北京2706信箱)
2-185
1980
chi
出版文献量(篇)
8640
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13
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