银的电沉积过程与5,5-二甲基乙内酰脲配位剂浓度及pH值的关系

• 作者: 朱雅平 王为
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 银电沉积 5,5-二甲基乙内酰脲 pH值 量子化学计算
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TQ153.1
• 语种: 中文

摘要

目前,对无氰镀银的电沉积机理及从分子配位机理角度的研究报道较少.采用循环伏安法(CV)测试,结合量子化学计算和镀银层表面形貌的SEM分析,研究了配位剂5,5-二甲基乙内酰脲(DMH)对银电沉积过程的影响.结果表明,Ag+与DMH配位后,还原电位负移;不同DMH浓度和pH值条件下,DMH与Ag+形成的配合物形式以及配合物稳定性均不同,随着DMH浓度增大及pH值升高,形成的配合物也更稳定;当pH值为10时,DMH与Ag+能够形成稳定的配合物[Ag(C5H7N2O2)]和[Ag(C5H7N2O2)2]-,在适宜的电位范围内能够制备出结构致密、表面平整、光亮的银镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王为	天津大学化工学院应用化学系	125	1597	22.0	34.0
2	朱雅平	天津大学化工学院应用化学系	2	3	1.0	1.0